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应用光学

应用光学

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主管:中国兵器工业集团有限公司
主办:中国兵器工业第二O五研究所;中国兵工学会
周期:双月刊
地区:陕西
CN:61-1171/O4
ISSN:1002-2082
审稿:20个工作日内,可加急
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期刊详情

应用光学杂志简介

《应用光学》杂志,于1980年经国家新闻出版总署批准正式创刊,CN:61-1171/O4,本刊在国内外有广泛的覆盖面,题材新颖,信息量大、时效性强的特点,其中主要栏目有:薄膜光学、光电器件、光学测试等。

《应用光学》杂志基本方针:认真贯彻“双百”方针以及国家科技出版业的各项方针政策,实施“科教兴国”战略,重点反映光电子技术国内外的发展状况、研究水平、应用情况,密切跟踪国外高新技术的研究动态,推动我国光电子技术的发展,打造科技成果转化平台,为我国国防现代化与经济建设服务。

杂志栏目设置

光电系统与工程 光电信息获取与处理 光学计量与测试 激光技术 光纤传感与光通信 

应用光学杂志特色

(1)本刊实行专家审稿制度。按照文章编审流程,对来稿一律择优录用,请勿一稿多投。

(2)题目:简明确切地反映论文的特定内容,一般不超过30 字,不得使用不常见的外来语、缩写词、符号、代号和商品名称。

(3)参考文献时应在括号内按姓名、年份的顺序注明该文献,如(科斯,1946)。如同一年份中有一个以上文献,可在年份后加a、b、c…如正文中已有作者名字,括号内可以仅注明年份。

(4)投稿须留下第一作者简介,并留下有关电话及邮寄的联系方式。

(5)正文应中心明确,分层论述。各层次标题格式为一级标题:一……;二级标题:(一)……;三级标题:1……;四级标题:(1)……;五级标题①……。